OTL-PECVD-1200-1400-1200 üç sıcaklık bölgesi PECVD sistemi, üç kaydırma çubuğu vakum boru fırını, kuvars vakum odası, radyo frekans güç kaynağı, GX gaz kaynağı sistemi, pompalama sistemi, vakum ölçüm sistemi ve elektrikli sürükleme mekanizmasından oluşur.

Ana Özellikler:

1. Radyo frekans güç kaynağı ile kuvans vakum odasındaki gazı iyon durumuna dönüştürmek.

PECVD, kimyasal gaz birikmesi için normal CVD'den daha düşük sıcaklık

3. Radyo frekans güç kaynağının frekansı ile tahrip edilen filmin gerilim boyutunu kontrol edebilir

PECVD, normal CVD'den daha yüksek bir kimyasal gaz tahrip hızı, iyi bir eşitlik, tutarlılık ve istikrardır.

5, yaygın olarak kullanılır: SiOx, SiNx, SiOxNy ve amorofob silikon (a-Si: H) gibi çeşitli ince filmlerin büyümesi.

Bu üç sıcaklık bölgesi PECVD sistemi, hızlı ısıtma ve soğutma sağlayan bir PECVD sistemidir ve üç boru fırınına bir çift elektrikli kaydırma sistemi ile elektrikli kaydırma sistemi kurulur. Isıtma ve soğutma hızları maksimum 100 ° C / dakika. En hızlı ısıtma için, fırını önceden ayarlanan sıcaklığa kadar ısıtabilir ve ardından fırını örnek alanına taşıyabilirsiniz.Yerleştir. En hızlı soğutma için, örnek ısıtıldıktan sonra fırını diğer ucuna taşıyabilirsiniz. Isıtma ve soğutma hızları vakum veya inert gaz ortamlarında elde edilebilir10 ° C / s, düşük maliyetli hızlı ısıtma ve soğutma çift sıcaklık bölgesi PECVD sistemidir.

Bu üç sıcaklık bölgesi PECVD sistemi, İsveç Kanthal direnci telleri ve silikon karbon çubuğu ile ısıtma bileşenleri olarak, çift katmanlı kabuk yapısı ve 30 bölümlük programlı sıcaklık kontrolü cihazı, fazlı tetikleme, kontrol edilebilir silikon kontrolü, fırın Japonya ithal alüminyum oksit polikristal fiber malzemesi ile, fırın borusu her iki ucunda paslanmaz çelik flanş sızdırmazlığı, paslanmaz çelik flanş üzerine hava ağızı, valf kurulmuşturVe basınç ölçeği, vakum pompalarken vakum derecesi 10-3 Pa'ya ulaşabilir, iki sıcaklık bölgesine bölünebilir, iki sıcaklık bölgesi bağımsız olarak kontrol edilebilir, farklı sıcaklık ayarlayabilir, kullanımı kolay, kullanımı kolay, fırın sıcaklık alanı dengesi, yüzey sıcaklığı düşük, hızlı soğutma sıcaklığı hızı, enerji tasarrufu ve diğer avantajlara sahiptir, üniversiteler, araştırma enstitüleri, madencilik şirketleri yüksek sıcaklık atmosfer yakmak için Düğün, büyüme grafen, büyüme ince film çeşitli ideal ürün.

(1), silikon karbon çubuğunun sıcak ucu kalınlığı 14mm, genel üreticiler tarafından kullanılan 12MM, ısıtma ucu kalın, kolay bükülmez, çubuğun yüzey yükü düşük ve uzun ömürlüdür.

（2), m soğuk ucu uzunluğu 210mm, genel üretici 180mm, soğuk ucu uzun fırın üstü sıcaklığı düşük.

(3) Silikon karbon çubuğu yüzeyi oksit kristal olmayan film yoğun, karbon çubuğunu daha iyi koruyabilir.

Devre aşırı akım veya sızıntı olduğunda, boş açılış otomatik olarak kesilir

Atmosfer boru fırınıAma...İletişim arayüzü ve yazılımı ile donatılmış, doğrudan bilgisayar tarafından fırının çeşitli parametrelerini kontrol edebilir ve bilgisayardan fırındaki PV ve SV sıcaklık değerleri ve aletlerin çalışmasını gözlemleyebilir, fırının gerçek ısınma eğrisi bilgisayar gerçek zamanlı olarak çizilecek ve her anın sıcaklık verilerini kaydedebilir, istediğiniz zaman ayarlanabilir

(1), vakum filtreleme kalıplama yüksek kaliteli yüksek saflık alüminyum oksit polikristal fiber sertleştirme fırını.
(2) Japon teknolojisinin kullanılması.
(3), fırın malzemesi düşük ısı kapasitesi, düşük ısı iletken faktörü, böylece daha az ısı, iyi yalıtım ve yüksek yansıtma. Sıcaklık dengesi.
(4), fırın alüminyum oksit ipleri ince ve uzun, yüksek sıcaklığa dayanıklı, ısıya dayanıklı soğutma kapasitesi güçlü
(5), fırın yüzeyi temiz, toz bırakmak kolay değildir.

(Tüm UL sertifikalı ithal cihazlar)